台灣唯一擁有MOCVD設備的領導廠商
漢民長期致力於MOCVD技術的創新與優化。除了具備成長氮化鎵（GaN）、氮化鋁（AIN）、砷化鎵（GaAs）與磷化銦（InP）等材料的機型，產品應用領域廣泛，包含高功率電子元件、LED 產業及光通訊領域。在 MOCVD設備的開發中，針對市場對高效能與高可靠性的嚴格要求，設計出符合產業標準並能穩定提供高品質製程的設備。
有機金屬化學氣相沉積設備
Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) System
完整產品線，涵蓋氮化鎵（GaN）、GaN on Si、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP）之應用
齒輪式同步公自轉機構
8''x6, 6"x8, 4"x18 最大化產能
獨立可調加熱系統
MOCVD 設備搭載三區獨立可調加熱系統，結合精密的溫控與晶圓表面溫度監控系統，透過回溯控制機制，確保晶圓溫度分佈的高度精準。同時，為了滿足不同製程需求，系統設計具備獨立控制的特殊氣體注入口，可根據需求靈活調整氣體流量，從而優化晶圓上的薄膜均勻性，此項設計可精確控制材料組成、膜層厚度及摻雜濃度等關鍵參數，適用於多樣化的半導體製造需求。
行星式晶圓載盤運動設計
此外，此系統採用行星式晶圓載盤運動設計，載盤的旋轉速度可靈活調整，確保材料在不同製程條件下均勻沉積，滿足各種精密元件的製造需求。
憑藉領先的技術與創新設計，漢民科技提供高效能、高均勻性的MOCVD解決方案，推動半導體產業在多元應用領域不斷突破，為行業發展奠定堅實基礎。
